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全球EUV光刻专利排名 ASML仅排名第三

2020-11-16 22:20运营 人已围观

简介在半导体工艺进入7nm之后,EUV光刻机就成为兵家必备大杀器了,全球也只有ASML公司能生产,单价达到10亿人民币一台。不过在EUV技术上,ASML还真不一定就是第一,专利比三星还少。韩国...

在半导体工艺进入7nm之后,EUV光刻机就成为兵家必备大杀器了,全球也只有ASML公司能生产,单价达到10亿人民币一台。不过在EUV技术上,ASML还真不一定就是第一,专利比三星还少。韩国媒体报道,近年来韩国企业及科研机构在EUV光刻工艺大举投入,专利技术上正在跟国外公司缩短差距。

全球EUV光刻专利排名 ASML仅排名第三

据报道,在2011到2020年的专利申请中,向韩国知识产权局(KIPO)提交的与EUV光刻相关的专利申请数量达到88件的峰值,2018年达到55件,2019年达到50件。

其中2019年中韩国本土公司提出的EUV专利申请为40件,超过了国外10件,

在2020年中,韩国公司提交的EUV专利申请达到了国外的2倍多,其中三星公司是最多的,该公司今年已经开始使用5nm EUV工艺生产手机处理器。

从全球来看,TOP6的厂商申请的EUV专利占了全部的59%,

再往下,韩国S&S Tech占了85,台积电占了6%,SK海力士占了1%。

从具体技术项目看,工艺技术申请专利占32%,曝光装置技术申请专利占31%,掩膜技术申请专利占28%,其他申请专利占9%。

在工艺技术领域,三星电子占39%,台积电占15%。

在光罩领域,韩国S&S科技占28%,日本Hoya占15%,韩国汉阳大学占10%,日本朝日玻璃占10%,三星电子占9%。

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